本图片来自深圳市矢量科学仪器有限公司提供的ULTRA 激光掩模光刻机,型号为ULTRA 激光掩模光刻机的德国海德堡半导体行业专用仪器设备,产地为欧洲德国,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的RIE等离子刻蚀系统、星型全自动涂胶显影机等仪器。
深圳市矢量科学仪器有限公司是仪器信息网的银牌,合作关系长达2年,工商信息已通过人工核验,获得仪信通诚信认证,
深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话:400-860-5168转5919,请放心选择!
查看 ULTRA 激光掩模光刻机 信息
同类推荐
看了有掩模光刻机的用户又看了
半导体光掩模光刻机
精密光学用镀膜系统
匀胶机
VPG 300 DI 无掩模直接成像仪光刻机
VPG 200 / VPG 400 有掩膜光刻机
匀胶机
反应性离子刻蚀系统RIE
反应性离子刻蚀系统RIE
MPO100双光子聚合直写光刻机
匀胶机
等离子增强化学气相沉积PECVD
等离子增强化学气相沉积PECVD
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻机
等离子增强化学气相沉积PECVD
匀胶机
等离子增强化学气相沉积PECVD
电感耦合等离子体化学气相沉积ICPCVD
晶圆湿法清洗工作台
MLA 300 无掩模光刻机
单晶圆刻蚀系统
湿法匀胶工作台
电感耦合等离子体刻蚀ICP
涂胶显影机
湿法匀胶工作台
星型全自动涂胶显影机
激光干涉仪
涂胶显影半自动机台
12寸喷雾式涂胶机
12寸 集束型涂胶显影机
激光椭圆仪
iAS系列大面积曝光机
织雀™PL-3D 桌面式高精密3D光刻机
VPG 200 / VPG 400 有掩膜光刻机
ULTRA 激光掩模光刻机
VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机
MA300 Gen3 掩模对准光刻机
SUSS投影扫描光刻机DSC300
AP200/300 光刻系统
日本JEOL电子束光刻机JBX-6300FS
日本JEOL电子束光刻机JBX-9500FS
VOYAGER 高性能电子束曝光系统
EBPG Plus 超高性能电子束光刻系统
德国 Raith 电子束光刻机 Pioneer Two
CRESTEC电子束光刻系统EBL 130KeV
CRESTEC电子束光刻系统EBL 50KeV
JEOL电子束光刻机系统EBL
Raith电子束光刻机EBL 30KeV
Raith 电子束光刻系统EBL 50KeV
德国Raith Voyager 新一代电子束光刻系统50KeV
Raith电子束纳米曝光机EBL 100KeV
POLOS 半自动光刻机8寸 德国
POLOS 光刻机 4寸德国
桌面微型紫外光刻机
直流汞短弧灯
OAI光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)