产品详情
氮化硅薄膜膜厚标准物质
标准物质编号：GBW13961
中文名称：氮化硅薄膜膜厚标准物质
英文名称：Thin Film Thickness CRM of Si/Si3N4
应用领域：光学特性
标准物质用途：校准仪器和装置；评价方法；工作标准；质量保证/质量控制；其他
保存条件： 真空包装，阴凉、干燥处存放
使用注意事项：样品开封使用应保证取样工具等洁净，避免样品沾污。
量值信息：
| 标准值 | 不确定度 | 单位 | |
| 氮化硅薄膜膜厚 | 52.67 | 0.28 | nm |
产品详情
氮化硅薄膜膜厚标准物质
标准物质编号：GBW13961
中文名称：氮化硅薄膜膜厚标准物质
英文名称：Thin Film Thickness CRM of Si/Si3N4
应用领域：光学特性
标准物质用途：校准仪器和装置；评价方法；工作标准；质量保证/质量控制；其他
保存条件： 真空包装，阴凉、干燥处存放
使用注意事项：样品开封使用应保证取样工具等洁净，避免样品沾污。
量值信息：
| 标准值 | 不确定度 | 单位 | |
| 氮化硅薄膜膜厚 | 52.67 | 0.28 | nm |
