仪器简介:
该设备利用频率为2450MHz的微波激励稀薄气体放电,从而产生等离子体。可用于等离子体气相沉积、等离子体气相刻蚀等实验,用于制备金刚石膜或其它多种功能薄膜,可催化引发常规化学很难实现的反应
技术参数:
本设备由微波系统、真空系统、水冷系统等几部分组成
电源:AC220V,50Hz
微波功率:0-1500W连续线性可调(或0-1000W连续线性可调)
微波频率:2450MHz±50MHz
石英管反应室:φ50mm
放置样品的基片台可以方便地在放电腔内上下升降调节
放电腔两端有双层水冷套作降温保护
1年
是
有
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