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LEICA INM 100 UV是晶圆与光罩检视的最佳光学显微镜（包括液晶显示板LCD,光碟CD,硬碟Hard-disc,品管与制程管理应用,目前,也包括许多微机电应用MEMS, Nanotechnology ） ,是先进的半导体厂或电子厂所必备的设备.具有Leica独家的HC （ Harmonic Contrast ）光学技术, UV （ 120 nm ）技术,以及DUV （ 80 nm ）技术.提供最佳光学平衡管理,超高光学解析,让你看到次微米解析,达到光学解析理论的极限.使用上最具人性化的人因公学设计,自动化控制提供最高的投资与使用效益. Class-1的规划,合符新一代的半导体制程所需.
详细描述
Features:
• Ergonomic
• 8”/200MM wafer capability
• Unique features of the INM100 , excellent for visualizing extremely fine detail.
• Objective magnifications from 1.6x to 250x and magnification changer
• Resolution down to 0.13um
• Full automation
• Wafer handlers available
• Mask and Wafer Inspection
• Laser Auto focus
• RS232 Interface for remote control
• Confocal, UV and DUV Systems
• BF, DF, Interference contrast fluorescence
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