仪器对比
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磁场强度从0.6Tesla 到1.1Tesla 以0.1 Tesla连续可调，确保最大灵敏度和精度。
专利的反塞曼-交变磁场-纵向塞曼调制和超脉冲调制方式，增加了检测的灵敏度
8灯座自动运转和自动预热，自动调整光学观察角度，自动元素选择
计算机控制光谱带宽0.1-2.0 nm 20档狭缝宽度和高度连续可调
具有普通空心阴极灯和超灯的编码灯的自动识别功能
标准带有10V超灯电源
USB接口通讯
内置数码摄像电子进样观测系统，优化进样和干燥、灰化程序，利于石墨炉分析系统化
采用横向加热全热解平台石墨管，使用寿命长，最小的温度梯度
独特的磁场强度(MFS)可调功能
而由于个元素的原子结构不同，磁场分裂条件也不同，其它仪器均采用固定磁场下分裂光束，在固定磁场下只能迁就某些元素，有些元素分裂过度，而有些元素分裂不够，造成灵敏度和线性范围严重下降。
SavantAA Zeeman 的磁场强度最大可至1.1Tesla，从0.6Tesla 到1.1Tesla 连续可调，这样确保磁场强度可以优化每一个元素，获得最大灵敏度。而其它固定磁场的石墨炉原子吸收仪则必须在众多元素的灵敏度和线性范围做出妥协，牺牲灵敏度和线性范围SavantAA Zeeman石墨炉原子吸收光谱仪针对每个元素都可优化磁场强度，高效率地提供最大的灵敏度和最好的线性范围。
精确的背景修正-纵向塞曼调制和超脉冲调制方式
传统仪器采用横向塞曼效应，光的传播方向与磁场方向垂直，光路中加有偏光镜，使光强度损耗大。而GBC采用纵向塞曼调制，无偏光器，光的传播方向与磁场方向水平，光路中无偏光镜，使光强度较传统仪器增加50%，从而增加了检测的灵敏度。
超脉冲背景校正方式是目前为止最快的背景校正技术。对于所有的背景校正系统，当背景改变很快时，在测量背景与总吸光度之间存在一个时间延迟，通常这种延迟能导致背景校正误差。系统采样速度越慢，时间延迟越长，时间误差也越大。
超脉冲背景校正方式每秒样品测定次数达200次（大多数校正方式为50次/秒），测量总吸光值与背景值之间的延迟时间只有1毫秒（大多数校正方式为10毫秒），使背景校正误差大大降低，内插法背景测量，使背景测量精度得到进一步改善。这种背景校正系统具有最强的扣背景能力，可校正到2.5Abs吸光度。先进的背景校正技术－唯一真正可以应用于石墨炉AAS的氘灯系统
先进的石墨炉设计
高效的石墨炉设计和精确的温度控制提供最优的条件，保证扩展分析和无人值守分析提供稳定的性能。采用独特的全热解石墨管平台设计较通常石墨管寿命提高三倍，并减少和消除大多数化学干扰。石墨炉升温速率可达2500℃/秒，确保在分析难熔元素时的最优的原子化条件。
容易更换、自基准的石墨管
独特的纵向交变磁场和石墨炉一体化设计的工作头由最新技术的电源控制，其优点是石墨管拆装容易和石墨管自基准设计，便于清洁和更换石墨管。独特的石墨管形状可快速精确自基准安装和注射口中心位置自动定位。
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