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日立离子研磨装置IM4000 II

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品牌

日立

型号

IM4000 II

产地

亚洲日本

应用领域

共2个

进口

日立离子研磨装置IM4000 II 具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器!

  • 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )混合模式带有两种研磨配置:
    断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像。
    平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择地研磨,以便突出样品的表面特性。

  • 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )高通量能提高加工效率:
        与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。
    (参考加工速率:硅元素为300微米/小时 — 加工时间减少了66%。

  • 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )可拆卸样品台装置:

    为便于样品设置和定义研磨边缘,可将样品台装置拆卸。


特点

 


  • 混合模式:两种研磨配置
    断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察
    平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研磨5 mm的平面,以突显样品的表面特性

  • 高效:提高加工效率
    与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间
    (参考加工速度:硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)

  • 可拆卸式样品台:
    为便于样品设置和边缘研磨,样品台设计为可拆卸型

 


 

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