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仪器介绍：
全息照相是利用相干光叠加而发生干涉的原理，记录参考光波与原物光波（从物体反射的光波）在记录介质上的干涉条纹。这种干涉条纹记录了物光波的振幅信息、位相信息。
本实验采用光致聚合物干版作为记录介质，半导体激光器作为光源，可以做反射式和透射式全息图（可以白光再现）。明室环境下即可成功操作，不需要配备专门的暗室。冲洗非常方便，经电吹风快速吹干水分，即可在白光下现出清晰的三维图像，易维护，尤其适合教学实验。
仪器特点：
●明室操作，白光再现
●光致聚合物干版，彩虹全息
●冲洗方便，快速显影
●30mW半导体激光器
●电子式曝光定时器，数字显示，手动控制
实验内容：
1、反射式全息照相
2、透射式全息照相
基本配置及参数：
可选配置：
全息照相是利用相干光叠加而发生干涉的原理，记录参考光波与原物光波（从物体反射的光波）在记录介质上的干涉条纹。这种干涉条纹记录了物光波的振幅信息、位相信息。
本实验采用光致聚合物干版作为记录介质，半导体激光器作为光源，可以做反射式和透射式全息图（可以白光再现）。明室环境下即可成功操作，不需要配备专门的暗室。冲洗非常方便，经电吹风快速吹干水分，即可在白光下现出清晰的三维图像，易维护，尤其适合教学实验。
仪器特点：
●明室操作，白光再现
●光致聚合物干版，彩虹全息
●冲洗方便，快速显影
●30mW半导体激光器
●电子式曝光定时器，数字显示，手动控制
实验内容：
1、反射式全息照相
2、透射式全息照相
基本配置及参数：
| 编号 | 名称 | 规格 | 件数 |
| 1 | 半导体激光器 | 波长650nm，带宽<0.2nm，功率>30mW | 1 |
| 2 | 曝光定时器 | 0.1~999.9s，B门、T门、定时、常开四种模式可选 | 1 |
| 3 | 磁性底座 | 通用底座 | |
| 4 | 夹持具 | 二维架，透镜架，载物干版架，光源二维调节架，载物台 | |
| 5 | 光学元件 | 扩束镜（f=4.5mm），平面反射镜 | 各1 |
| 6 | 全息干版 | 红敏光致聚合物全息干版 | 1 |
| 7 | 其它 | 小物体 |
可选配置：
| 编号 | 名称 | 规格 | 件数 |
| 1 | 平台（含支架） |
平面粗糙度≤0.8μm，平面度≤0.05mm/m2， 外形尺寸：600mm×600mm×60mm |
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