仪器对比
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仪器简介：
?用于捕集8吋和6吋硅晶片表面的挥发性成分（有机污染物）。(SW-8400)
?用于捕集12吋硅晶片表面的挥发性成分（有机污染物）。(SW-12400)
?捕集单面硅晶片挥发性气体，操作简便。
?加热炉采用倒悬方式（参照下图），仅对晶片正面产生的气体进行捕集采样。
?加热炉最高可加热到500℃。
?加热炉封口采用O形环（聚亚胺材质）密封，无泄露。
?一般采用PAT（内容积10ml，填充2.5g Tenax GR）捕集气体。也可选用其他厂家的相应捕
集采样管进行采样。
?配备冷却水循环装置。
?配备防过热装置、联锁安全装置、急停按钮、漏水传感器（选配）等安全防范装置。
技术参数：
方式 ： 倒悬方式
捕集硅晶片尺寸： 8"或6"，5"以下需添加扩充环（12400型，12"）
O形环：封口部直径220mm（聚亚胺）
石英加热炉： 透明石英材质
加热炉加热方式： 顶板?底板独立加热方式
加热炉使用温度： 常用400℃（最高可达500℃）
加热炉冷却： 冷却水循环装置
保温管： 内表面惰性化镀层处理
吹扫气： 通常用氮气，最大使用流量500ml/min
防过热装置： 电流15A，感应电流30mA
急停按钮： 红色，蘑菇型
安全装置： 联锁结构
加压方式： 电机驱动
设备尺寸： 1140(W)×1106(H)×750(D)mm
电源： 单相AC200V、15A?AC100V、20A
重量： 280 Kg
标准附件：
PAT（一级吸附管）： 2支（与其它公司捕集管不配套）
PAT架： 1个（与其它公司捕集管不配套）
PAT适配器： 1个（与其它公司捕集管配套使用）
O形环： 2个
冷却水循环装置： 1台（附标准配管）
保温管： 1支
气体配管： 1套（1/16"-1/8"）
缆线： 1套
工具： 1套
操作说明书： 1册
＊SW-12400型的技术规格请垂询。
主要特点：
?用于捕集8吋和6吋硅晶片表面的挥发性成分（有机污染物）。(SW-8400)
?用于捕集12吋硅晶片表面的挥发性成分（有机污染物）。(SW-12400)
?捕集单面硅晶片挥发性气体，操作简便。
?加热炉采用倒悬方式（参照下图），仅对晶片正面产生的气体进行捕集采样。
?加热炉最高可加热到500℃。
?加热炉封口采用O形环（聚亚胺材质）密封，无泄露。
?一般采用PAT（内容积10ml，填充2.5g Tenax GR）捕集气体。也可选用其他厂家的相应捕
集采样管进行采样。
?配备冷却水循环装置。
?配备防过热装置、联锁安全装置、急停按钮、漏水传感器（选配）等安全防范装置。
| 用户单位 | 采购时间 |
|---|---|
| 无锡海力士—恒亿半导体有限公司 | 2006-04-01 |
1年
否
无
1次免费培训
1年1次
免费上门，免除消耗品外部件费用
24小时响应，48小时内上门
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