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Eulitha公司开发的PhableR光刻系统，是一款纳米级高分辨图形化设备。PhableR设备的推出，简化了高质量、大面积纳米周期图形的加工过程。Eulitha公司多年来不断致力于提升技术能力，目前客户已经分布在全球众多领域的科研院所和工业企业。
北京汇德信科技有限公司是瑞士Eulitha公司在中国的独家代理，公司团队有25年以上微纳米加工领域的销售和服务经验，具备完整的咨询和技术支持体系。
EULITHA AG公司开发的PHABLE大面积、低成本的纳米图形化方案，采用突破性的Displacement Talbot Lithography技术。相比传统的电子束光刻、投影式光刻机、纳米压印等纳米结构方案中，遇到的生产效率、良率、生产成本等问题，PHABLE光刻技术提供了高精度、高均匀性、低缺陷率、高产率的解决方案。
应用领域：
照明、激光器、光通信、高端显示、太阳能、传感器、仿生等。
特点及优势：
稳定的纳米级分辨能力；
大面积全域曝光，无需拼接；
无限制DOF，厚胶、表面翘曲无影响；
双工作模式：
全息光刻模式：周期性纳米结构；
掩膜对准光刻模式：任意微米级结构。简化的曝光流程，可实现一键式曝光
灵活的客户定制化方案
1年
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