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产品简介：
监控薄膜沉积最强有力的工具，用F30光谱反射率系统可以实时测量沉积率、沉积层厚度、光学常数(n和k值)和半导体以及电介质层的均匀性。
产品特性：
1）
极大地提高生产率
2）
快速—几秒钟完成测量
3）
精确—测量精度高于±1%a
4）
低成本—几个月就能回收其自身的成本
5）
非侵入式—测试完全在沉积室以外进行
6）
易于使用—直观的 Windows™ 软件
3，产品应用：
分子束外延（MBE）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）可以测量平滑和半透明的，或者轻度吸收的薄膜。这实际上包括从氮化镓铝（AlGaN）直至镓铟磷砷（GaInAsP）的任何半导体材料。
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