应用领域: 1. 电子产品:PCB板、柔性电路板、平板显示器、感光树脂的剥离 2. 医药方面:生物材料表面处理、杀菌、组织培养等 3. 工业方面:高分子膜表面改性、终端安装清洗等
主要特点 1. 专利化能量分布设计,美国专利号:4,887,005 / 5,190,803 / 5,228,963 / 5,48,560 / 5,733,511 2. 采用微处理器控制 3. 适合各种等离子体的处理,如清洗、表面改性和刻蚀等 4. 气体流速精确控制和混合 5. 射频自动匹配功能 6. 高密封的真空系统
主要型号: 1. 间歇式系统:PJ、PS-350/500 2. 客户专用型系统:PS-750/2020/ 3030 3. 大批量系统和滚筒式系统
技术参数: 型号PJ电源要求 115/220V, 15A 射频功率 300W,13.56MHz 射频匹配 自动匹配 控制方式 基于WindowTM的PC控制 仪器尺寸 60×60×30cm,35 Kg 样品室 20cm直径,25cm长 耐高温玻璃,可选择石英 电容耦联,一个气体供应 气体供应 包括一个流速控制器 可选附件 氧气供应 水蒸气过滤器 真空计 真空阀 真空泵 流速控制器MFC等 型号 PS350 PS500 PS750 射频功率 600W,13.56MHz 600W,13.56MHz 600W,13.56MHz 仪器外观(cm) (H×W×D) 183×63×61 203×63×89 203×114×63 样品室(cm)(H-W-D) 42×34×50 53×37×68 165×38×41
|