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仪器简介：已停产
K975X涡轮蒸镀仪是一个多用途系统，它具有灵活性和模块化扩展功能，以适应不同的样品制备。
它可从蒸篮和坩锅进行碳蒸发、金属蒸发并且可选溅射附件。
K975X可应用一系列成熟技术，包括镀碳及TEM覆形，碳/金属蒸发、低角度Shadowing和通过使用双源蒸发进行顺序涂层，可选的溅射镀膜附件能适用于各种靶材。
通过使用微处理控制器，更增强了系统的灵活性，用户很容易附加各种可选件，但是这些“缺省”都是经过优化操作设计，使得全自动和手动操作均可实现非常好的操作。
独特的抽屉式样品装载系统使用户方便放入各种样品，铰链式顶盖结构很容易达到系统其它区域。
涡轮分子泵安装在系统外部，可方便安装及更换，它的前级真空为旋转真空泵。 整个抽气过程为全自动控制，达到高真空后进行蒸发。本仪器为台式，可方便地进行使用控制，使用中的疏忽也不易造成损坏。
K975S半导体晶圆蒸镀仪
K975S基于K975X，但是它具有特殊的装载锁定门，可允许放入8英寸（200mm）晶圆镀碳，应用于FIB。
优点
● 容易操作
● 使用灵活
● 可靠的碳蒸发
● 方便的样品装载及卸载
● 灵活的操作，可选择碳及金属蒸发源
● 在排气过程中可防止样品损坏
● 系统灵活性强
● 很容易测量金属或碳沉积膜厚
主要特点：
特点
● 全自动抽真空系统
● 样品尺寸可达140毫米见方或200毫米直径
● 独特的“anti-stick”碳棒蒸发机构
● 抽屉式样品装载系统
● 可选的蒸镀类型，具有四种蒸发设置
● 约束的或开放的排气控制
● 可选用各种溅射靶材附件适用于一系列金属
● 可选膜厚监测系统
1年
是
有
安装时免费培训操作和维护方法
不定期上门回访服务
免费更换零部件，免人工服务费
24小时内电话指导排除故障，如需要将在3-5个工作日内上门维修
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