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为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。 配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。 各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机
技术参数：
1、适用于常规SEM/TEM/DEX喷涂要求
2、可选离子溅射模式、碳丝蒸发模式、或双模式、可选挥发放电功能
3、方向型离子溅射模式，可提高平面样品镀膜效果，独特的脉冲式碳丝蒸发模式，实现对碳膜厚度的控制
4、可选配石英膜厚监控器，可程序化控制膜厚，并反馈镀膜仪，精度为0.1nm
5、标配有镀膜金属挡板，可用于干预溅射，确保镀膜纯度
6、专利设计方形样品室，尺寸：140mm宽x145mm深x150mm高，样品台直径80mm
7、工作距离：30-100mm
8、溅射电流：≤150mA
9、极限真空度：≤7x10-3mbar
10、一体化触摸控制界面，操作简单
徕卡Leica EM ACE200真空镀膜仪信息由迪卡尔科技（天津）有限公司为您提供，如您想了解更多关于徕卡Leica EM ACE200真空镀膜仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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