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IBE离子束刻蚀
NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。
NIE-3000IBE离子束刻蚀产品特点：
低成本
离子束：高达2KV/10mA
离子电流密度100-360uA/cm2
离子束直径：4",5",6"
兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
极限真空5x10-7Torr
260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵
14"不锈钢或铝质腔体
水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)
自动上下载片（NIE-3500）
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
占地面积30"x30"
NIE-3000IBE离子束刻蚀产品应用：
表面处理
离子铣
表面清洗
带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀
NIE-3000IBE离子束刻蚀 Features：
Low Cost
Ion Beam: Up to 2KV/10mA
Ion Current Density 100-360 μA/cm2
Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”
Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2)
Base Pressure 5x10-7 Torr
260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump
14” SS or Al Chambers
Water Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)
Auto Load and Unload (NIE-3500)
PC Controlled with LabVIEW Software
Footprint 30”x30”
NIE-3000IBE离子束刻蚀 Applications：
Surface Cleaning
Surface Treatment
Ion Beam Milling
Ion Beam Etching with Reactive Gases:
Grating
Deep Trenches on SiO2, Si and metals
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