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溅射离子枪主要用途:
溅射清洗/表面科学中样品表面处理, MBE and HV 溅射过程
离子辅助沉积
离子束溅射镀膜
反应离子刻蚀
技术指标:离子能量 25eV - 5keV 总的离子束电流 1mA (at 5kV with Argon)
High Current Version: up to 4mA (at 5kV with Argon)电流密度 120μA/cm2 at 100mm working distance 离子束发散角 Ion energy dependant (typically 15°) 工作距离 100 mm (typically) 等离子体杯 Alumina (superior than other dielectric materials due to highest yield of secondary electrons) 气体进气口径 CF-16 (1.33“OD) 气体流速 1 - 5 sccm (1,5 sccm typical, gas dependant) 工作真空度 10-6mbar - 10-3mbar (1x10-5mbar typical in chamber with 300l/s pimp). Low 10-6 mbar range possible - beam current then 140μA max. 激发模式 微波放电等离子体 (无灯丝) 安装口径 CF-35 (2.75“OD) 枪直径 34mm (真空端) 泄露阀 需要气体质量流量计
溅射离子枪，等离子体发生源信息由中昊清远（北京）科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于溅射离子枪，等离子体发生源报价、型号、参数等信息，CHOHAO客服电话：400-860-5168转3962，欢迎来电或留言咨询。
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