仪器对比
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? 适合研发用的CMP设备 (R&D CMP Polisher)
? 能控制区间的研磨头 (Zone Control Able Carrier)
? 适用于200和300mm的研磨头 (200,300mm Polishing Carrier Compatible)
? 可360度旋转机器 (Rotary Type Concept Mechanism)
? 最适合用于研发的设备 (Best Solution for R&D System)
? 可用3区间和5区间研磨头(3 and 5 Zone Polishing Carrier Compatible）
? 可使用其他研磨头(Other Polishing Carrier Compatible）
1年
是
有
3人次现场培训
用户使用半年后，将安排一次应用培训以使用户达到熟练使用设备程度
设备保修期内不收取零部件及其它费用，实行保修服务。并提供设备终身售后服务
接到用户通知后，2小时内做出响应，24小时内给出明确解决方案
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