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GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积（PVD）制备薄膜技术的一种。设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪可用于实验室制备扫描电镜样品使用，且设备体积小巧，节约实验室空间；操作简单，适合初学人员使用。
1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。
2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得良好镀膜效果。
3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。
4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。
5、根据电场中气体电离特性，采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。
6、溅射头采用Peltier制冷技术，可得到高性能、精细颗粒的涂层。
7、可用水冷溅射头、水冷载物台。
| 产品名称 | GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪 | |
| 产品型号 | GSL-1100X-SPC-16M | |
| 安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备需选配自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（带减压阀） 4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通风装置：不需要 | |
| 主要参数 | 1、靶：?50mm 2、真空室：?160mm×120mm 3、真空度：≤4×10-2mbar 4、max电流：50mA（可选100mA） 5、可设定极限时间：9999s 6、微型真空气阀：连接?3mm软管 7、极限电压：1600V DC 8、机械泵：2L/s | |
| 产品规格 | 尺寸：360mm×300mm×380mm。 | |
| 标准配件 | 1、金靶材1个 2、进气针阀1个 3、保险丝2个 | |
| 可选配件 | 金、铟、银、铂等各种靶材 | |
1年
是
有
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