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THERMAL NIL 桌面式纳米热压印机
产品描述
NIR-MFD-S-SM-2 NILT CNI 实验用纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。NILT CNI热压设备，
产品特点
占地小、操作简便
可实现高质量的图形复制
可实现纳米热压设备的一切功能，而无需昂贵的工艺设备。
应用领域
在硅片上制作纳米级光栅
压印易碎的材料（例如III-V族材料）
微结构加工
制作压印印章
保护母版的适用寿命
热压高深宽比结构图形
THERMAL NIL 主要性能指标：
集成控温卡盘，可对温度进行测量、控制 压印程序可进行编程（温度、压力、时间）
可适用于100mm（4 英寸以下）所有尺寸和形状的压印模板。 可适用于Silicon, Quartz, Nickel and Polymer materials 压印程序可进行编程 适用所有热压印材料 设备可用于复制压印母板 压印温度可达200 摄氏度 压力范围：1‐10 bar 压印精度：40nm 或更好 (可完成工艺验收) 将模板加热和温度测量集成与压印载盘上 载盘适用于易碎衬底 快速升温，快速降温，拥有专利技术的卡盘设计，可保证快速升温、降温并保持良好的 温度均匀性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分钟 提供COC 有机聚合物中间层软膜（最先进的母板复制工艺），耗材及工艺培训 提供压印相关材料 提供工艺培训和支持
压印实例
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NIL TECHNOLOGY ApS (NILT) | ||
NIL TECHNOLOGY ApS (NILT) 部分应用实例：
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方形结构阵列500nm
Distributed feedback laser array (DFB）
分布式反馈激光器，240nm光栅结构
Demonstration of imprint on Indium Phosphide (InP)磷化铟
Protrusion height突出高度：112 nm 纳米
订购型号：
CNI-V2.1桌面式纳米热压印机 参数：热零点高达240摄氏度,UV NIL@365nm,压印压力:0.3至11Bar,真空压印（1mbar）,印章和基板尺寸：高达200 mm
1年
是
有
我司实验室可进行培训
1年内
免费更换零件 调试等
约定时间内进行维修调试
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