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量产型 薄膜封装专用 原子层沉积系统(R2R ALD)主要应用于有机半导体（（Micro)OLED,QD,OPV,钙钛矿光伏....)在线批量生
产的薄膜封装（TFE）.可对平板Panel或柔性(Flexible)基底进行卷对卷（R2R）封装.
在OLED Panel厂产线有广泛应用！
主要应用：
-硅基WVTR(水蒸气透过率)的阻挡层
-Micro-OLED封装层
-柔性衬底用阻挡层
-OLED封装层
-柔性OLED显示器、柔性OLED照明、量子点、柔性太阳能电池等高水分阻隔膜的卷对卷（R2R)ALD工艺：
特点：
1.ALD超薄高k介质,厚度均匀性好，100%保形步进覆盖。
2.先进的工艺套件和小体积的短周期室
3.极限地实现了ALD机构(行波法)
4.小脚印全集成工艺模块
5.过程控制方便，供气线路长度最小。
应用尺寸：370*470mm,730*920mm,1500*1850mm....
售后服务
1年
是
有
根据需要
简单易于维护
终身维修
24小时对应
量产型 薄膜封装专用 原子层沉积系统信息由南京爱斯莱特检测技术有限公司为您提供，如您想了解更多关于量产型 薄膜封装专用 原子层沉积系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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