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OpAL 英国Oxford开放式样品载入原子沉积(ALD)设备

报价 ¥80万 - 100万

品牌

Oxford Nanoimaging

型号

OpAL

产地

欧洲德国

应用领域

暂无
产品详情

英国Oxford OpAL 开放式样品载入原子沉积(ALD)设备

 

86. oxford OpAL.png


紧凑型开放式样品载入原子层沉积(ALD)系统

OpAL提供了专业的热ALD设备,可以简单明了的升级使用等离子体,使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。

开放式样品载入热ALD,集成等离子体技术
现场升级到可使用等离子体
从小晶片到200mm大晶片

适用于学术、产业、研发的热和/或等离子体化学产品,可用于:

氧化物: HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5
氮化物:TiN, Si3N4
金属: Ru, Pt

 

ALD应用举例:

纳米电子学
高k栅极氧化物
存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区
有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层
钝化晶体硅太阳能电池
应用于微流体和MEMS的高保形涂层
纳米孔结构的涂层
生物微机电系统
燃料电池

 

直观性强的的软件提高性能

使用与牛津仪器的值得信赖的Plasmalab ®产品家族相同的软件平台, OpAL的程序驱动、多用户级别、PC2000TM控制的软件易于操作且可为快速ALD做相应修改。


售后服务

1年

免费安装及技术培训

6个月一次。

经确认质量问题,免费更换。

24小时内到达现场并开始维修

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