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荫罩掩膜对准器 Shadow Mask Aligner
设备简介：
本设备可以用于精确和可重建性的对准荫罩掩膜和晶圆。可以放于真空腔体用于PVD工艺。沉积后，夹盘可以打开，晶圆和掩膜可以不破坏的分离，并且掩膜板可以重复利用。
夹盘可以用于任何基底尺寸以满足用户的要求，并且我们也可以提供精确和经济的由金属、硅、玻璃、陶瓷等制造的荫罩掩膜。
产品型号：SMA-100，SMA-150，SMA-200
晶圆和荫罩尺寸：100mm,150mm,200mm，取决于设备的配置
样品台特征：
X和Y方向范围：步进10μm，灵敏度2μm
Z方向范围：步进10μm，灵敏度2μm
旋转角度：360°不间断
倾斜：工厂校准，工程师手动调节
对准精度（溅射后）
线性对准：典型值6μm， ZUI大值10μm
旋转对准：0.001°到0.009°
夹盘
晶圆尺寸：100mm,150mm,200mm
夹盘材料：阳极氧化铝或非阳极氧化铝
夹盘厚度：20mm取决于晶圆和掩膜的厚度
荫罩掩膜（客户可定制荫罩掩膜）
材料：硅、石英、玻璃、金属、陶瓷
仪器尺寸：500mm x 250mm
安装需求：用于对准过程中用来观察的显微镜、真空
注：可以根据用户的需求进行定制。
优点：
精确和可重建性的PVD涂层构建
用于PVD的减震夹盘
易用、对晶圆无损夹持机构
由于真空夹持，可以在对准的过程简单操作
可以用于不同的晶圆尺寸
不需要安装
低运行成本
1年
是
有
免费提供产品培训及安装
质保期内，供方为检修设备发生的所有费用由供方承担
供方免费质保1年，厂家终身维修并保证零配件供应
若设备发生问题，对相关的技术问题能在24小时内及时进行响应，供方可通过电话、传真
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