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样本下载§ 产品简介:
nanoCVD-WPG型大尺寸石墨烯CVD系统是英国MOORFIELD公司与英国曼彻斯特大学“诺贝尔奖”石墨烯团队共同开发的一款专门大尺寸生长高质量石墨烯的纳米CVD系统,最大样品尺寸可达4寸,该系统采用国际领先的“冷壁技术”及“等离子软刻蚀技术”生长石墨烯,具有生长速度快,石墨烯质量高,耗量少,无污染的优点,是制备大尺寸高质量二维材料石墨烯用户的理想选择。
§ 产品特性:
• 采用全自动“冷壁”技术与独特的加热台设计实现高效加热和低反应材料消耗,运行费用低,石墨烯质量高。
•压力:<5×10-7mbar
• 装样简单
• 样片尺寸:3寸或4寸
• 等离子体源:150W/13.56MHz RF源
• 可在冷壁腔体中加等离子电极
• 加热单元:低热载,高加热率,最高温度1100℃,分辨率为1℃,热电偶温度实时监测温度;,
• 三路气体配带流量控制,标准为Ar,H2与CH4;
• 内置压缩气体风扇高效冷却散热;
• 生产时间短:一次完整生长流程时间小于30分钟;
• 触摸式液晶触摸屏界面可自设和存储多达30个生长流程,生长条件精确控制,可重复生成制备石墨烯;
• 联机数据采集,生长流程全自动控制;
• 系统维护便捷方便,压力、气体流量和温度参数连锁确保使用安全。
§ 生长体系:
• 基底:Cu, Ni, etc. (films or foils)
• 气体:H2, Ar, N2, etc.
• 碳源原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.
§ 应用:
• Graphene & 2D materials
• Electrodes for photovoltaics
• Touchscreen displays
• High-performance electronics
• Biological, chemical and mechanical sensors
• Electrical energy storage
1年
是
有
培训人数不限
半年1次
免费维修更换零配件
接到用户产品维修需求,3小时内做出反应。
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