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PVA-TePla微波等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，去胶均匀。
典型应用：
去除光刻胶 Photo-resist stripping
去除残胶 Wafer descum
晶圆和衬底的清洁 Wafer and substrate cleaning
su-8灰化 Su-8 ashing
氮化硅、聚酰亚胺等的刻蚀 Etching of silicon nitride, pi, etc.
刻蚀钝化层 Etching of passivation layers
逆向分析/失效分析中的器件开封 Device decapsulation for failure analysis
微量分析中低温材料灰化 low temperature ashing of materials for chemical trace analysis
过滤器和薄膜的清洁 Cleaning of filters and membranes
规格参数：
2.45GHz风冷微波电源（0～600w可调），
石英或陶瓷腔体，
防腐蚀不锈钢MFC,
多至6路气体，
兼容8英寸及以下晶圆
PC 工控机控制，运行数据自动存储；分级控制权限，防止操作
图形化触控屏界面，运行状态图形化实时显示。
自动/手动随意切换
可选配法拉第桶
可选配温控系统
可选配压力控制系统
外形尺寸：775×749×781 mm
认证：
CE 认证
EN 61010
EN 61326
Semi E95
ISO 9001
IoN Wave 10 等离子体去胶机是PVA TePla 在微波等离子体处理工艺中的新产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适用、性能先进。
IoN Wave 10 使用新的、性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。其工艺监测和数据采集软件可实现最严格的质量控制。
IoN Wave 10 占地面积小，安装维护简单。依靠微波等离子体技术，该设备在提供极高的光刻胶灰化速度的同时，降低了产品暴露在静电中风险。
1年
是
有
免费操作维护培训
半年1次
免费维修，更换零件
24内响应
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