摩方精密BMF-光固化3D打印机（25μm）- nanoArch® S140
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nanoArchR S140系统简介
光学精度：10μm；
打印幅面：94×52mm；
超高精度大幅面增材制造设备。
系统性能
光源：UV-LED(405nm)
打印材料：光敏树脂
光学精度：10μm
打印层厚：10~40μm
打印样品尺寸：
模式1：单投影模式：19.2mm(L)×10.8mm(W)×45mm(H)
模式2：拼接模式：94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)
模式3：重复阵列模式：94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)
打印文件格式：STL
系统外形尺寸：1000mm(L)×700mm(W)×1600mm(H)
机器外形尺寸：650mm(L)×650mm(W)×750mm(H)
重量：245kg
电气要求：220~240V AC,50/60HZ,2KW
系统特点
超高精度（光学精度高达10μm）
低层厚（10μm~40μm的打印层厚效果对比）
微尺度打印能力
光学监控系统，自动对焦功能
优良的光源稳定性
配套功能强大的打印软件、切片软件
应用案例
跨尺度微点阵结构
倾斜微针结构
乳液生成器
140样件
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电子/电气 2021-01-27
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医用内窥镜高精密3D打印加工解决方案
医疗/卫生 2020-06-02
| 用户单位 | 采购时间 |
|---|---|
| 北京大学 | 2021-02-02 |
1年
是
有
安装时提供免费的技术培训
1年1次
免费维修更换零部件（非人为造成）
反馈后24小时内提供修理方案
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