诚峰智造是一家专业致力于提供等离子设备及工艺流程解决方案的高新技术企业。源于美国&德国30年Plasma生产制造及研发技术,公司全资拥有CRF品牌下等离子设备研发,生产,制造技术,设备范围涵盖汽车制造业。手机制造业,医疗行业,织物印染行业,重工业,半导体封装行业,新能源行业,IC半导体领域,FPC/PCB领域,LED显示屏组装等行业。CRF诚峰智造,现已成为中国专业的等离子处理系统解决方案等离子设备供应商。
在线式真空等离子清洗机厂家直销:
在线式真空等离子处理系统CRF-VPO-8L-S
名称(Name)
真空式等离子处理系统
型号(Model)
CRF-VPO-8L-S
控制系统(Control system)
PLC+触摸屏
电源(Power supply)
380V/AC,50/60Hz,3kw
中频电源功率(MF Power)
600W/13.56MHz
容量(Volume)
80L(Option)
层数(Electrode of plies)
8(Option)
有效处理面积(Area)
400(L)*300(W)(Option)
气体通道(Gas)
两路工作气体可选: Ar、N2、CF4、O2
产品特点:超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,有效控制设备运行。
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求。
保养维修成本低,便于客户成本控制。
高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。
应用范围:主要适用于生物医疗行业,印制线路板行业,半导体IC领域,硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。
等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对玻璃、金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。 等离子体的”活性”组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。
等离子清洗设备的原理是在真空下,然后利用交流电场使工艺气体成为等离子体,并与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质, 由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去, 从而使工件达到表面清洁活化。等离子清洗是剥离式清洗, 等离子清洗的特点是清洗之后对环境无污染。在线式等离子清洗设备是在成熟的等离子体清洗工艺技术和设备制造基础上, 增加上下料、物料传输等自动化功能。针对IC封装中引线框架上点胶装片、芯片键合及塑封等工艺前清洗, 大大提高粘接及键合强度等性能的同时, 避免人为因素长时间接触引线框架而导致的二次污染以及腔体式批量清洗时间长有可能造成的芯片损伤。
在线式真空等离子清洗机的主要结构包括:上下料推料机构、上下料置取料平台、上下料提升系统、上下料传输系统、上下料拨料机构、反应仓、设备主体框架和电气控制系统等。
在线式真空等离子清洗机自动搬运物料的设计理念,与常规等离子清洗系统相比,降低了人工搬运过成,提高了设备自动化水平。
等离子清洗属于一种高精密的干式清洗方式,原理是在真空状态下利用射频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢等工艺气体激发成具有高反应活性或高能量的离子,通过化学反应或物理作用对工件表面进行处理,实现分子水平的沾污去除,提高表面活性。对应不同的污染物,应采用不同的清洗工艺,达到很好清洗效果。
随着在线式真空等离子清洗机及工艺在IC封装领域内的应用越来越广泛,并以其优良的工艺性能促进了微电子行业技术的快速发展,成为21世纪IC封装领域内关键生产装置,成为提高产品可靠性和成品率的重要手段,是生产中不可缺少的步骤。
性能优势:
1、原装进口电源:采用原装进口高压激励电源电路技术,产生高密度等离子体,确保出众的清洗效果。
2、全面安全防护:温度安全防护功能,过载防护功能,短路断路报警防护功能,各种误操作保护功能。
3、独有放电技术:特殊处理及特殊结构的放电装置,确保形成稳定均匀的等离子体。
4、密封性卓越的真空腔体设计:军工级的高真空度真空腔体设计及制造工艺,配置进口真空泵。
5、优质产品部件:产品全部部件采用国内外优质部件,确保设备性能优越
6、超低清洗温度:满足不同场合温度要求,不对清洗产品造成温度影响。
7、精密数控加工:进口精密CNC数控机床加工工艺,并配备进口三坐标测量仪进行质量监控。
8、适用形状复杂样品:清洗各种复杂形状的产品,包括内孔内壁,均匀清洗。
1年
否
有
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