l纳米团簇束流沉积系统由纳米团簇源、质量选择器、沉积系统构成。
l可以用于基于纳米粒子的器件加工,可在结构、化学组分、封装等不同环节上对纳米结构单元进行操纵。
l可用于纳米粒子膜的大规模工业化制备。
l工艺过程高效、快速和低成本。
v创新的镀膜、沉积设备
v新型的纳米颗粒制备设备
纳米粒子源通过气相聚集过程及差分束流系统形成纳米团簇束流,由质量选择器进行筛选,然后在高真空下以声速(低能)或被加速(高能)沉积于基底上。
1、纳米团簇束流沉积系统——纳米团簇源
l纳米粒子的平均直径:0.5~35nm(1 ~ 106个)可调。
l纳米粒子的尺寸分布(FWHM):2~5nm。
l可选用多靶套件。
l可选用粒子弯头,实现多种团簇沉积或取样。
l相比传统磁控溅射系统,节约大约50%氩气。
l靶材可以是金属(包括碱金属、贵金属和特高熔点金属,例如:锇、钨)、非金属(常温常压下固态非金属单质和化合物)、半导体(例如硅、锗)、能在真空存在的固态有机材料等。
2、纳米团簇束流沉积系统——质量选择器
l基于德国科学家的时间飞行法对小团簇进行原子数级的质量选择,可以从“白”束流中分选出pA-nA流量的单原子数组分束流,质量选择精度为0.5 ~2%。
l1-200单原子可控。
l尺寸选择精度:亚纳米级。
l通量:1010/s ~ 1011/s(1-10nA)。
l选择后束流原子数在1 ~10000之间,选择精度优于20,可达200。
3、纳米团簇束流沉积系统——沉积系统
l纳米薄膜沉积速度可监控,并在0.05 ~2nm/s连续可调。 l标准纳米束流直径:0.5 ~25mm可调,可选配样品X-Y扫描器,制备150×150mm以上样品。
l可实现加速动能为1 ~40keV的荷能纳米粒子沉积。
l系统背景真空度可达10-9Torr。
l控制沉积速度(声速)并配合控温台(选配)实现沉积过程不升温。
l可选配快速降温组件,实现退火,得到一些特殊相。
l可用于制备纳米颗粒。
1年
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