对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700
对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的量产用干法刻蚀装置。(此爱发科独chuang的NLD技术设备可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子)
产品特性 / Product characteristics
• 在洁净房内作业可扩张为双腔。(可选配腔室:NLD、有磁场ICP、CCP或者去胶室)
• NLD为时间空间可控的等离子,因此设备干法清洁容易。
• 腔体维护简便。
• 从掩模刻蚀到石英、玻璃刻蚀,可提供各类工艺解决方案。
• 专门的半导体技术研究所会提供万全的工艺支持体制。
产品应用 / Product application
• 光学器件(折射格子、光波导、光学开关等等)、凹凸型微透镜。
• 流体路径作成或光子学结晶。
1年
是
有
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2个月1次
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