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日本Ulvac干法等离子刻蚀装置NE-550Z
装置外观·功能
NE-550Z是高真空load-lock式干法等离子刻蚀装置，适用于半导体材料、金属材料等的精细刻蚀
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装置发展历史-安定性好
NE装置发展简史.装置运行历史长，安全稳定性值得信赖.
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NE-550系统特徵一览
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装置优势性能-1-省空间
占地面积：占地面积小，含操作维护空间3700x700mm
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装置优势性能-2-C室可减配/适应不同需求
搬运方式：装置集成化设计，搬运省时便捷
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装置优势性能-3-ISM等离子体性能
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装置优势性能-4-压片方式 (ESC)
Substrate Chuck System and Shield(ESC)
?基板与电极接触更好
?基板冷却更均匀
?基板工艺面全覆盖
?简化流程效率更高
?耗材少故障率低
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装置优势性能-4-压片方式(机械式)
Substrate Chuck System and Shield (Mechanical chuck)
适用于Φ230mm 托盘
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装置优势性能-5-等离子体覆盖面积广
Star 电极可以扩大放电范围，在 干法cleaning时，增加清洗范围， 增强清洁效果。
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装置优势性能-6-基板尺寸兼容好
基板兼容性：可通过更换ESC电极，兼容各尺寸基板
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装置优势性能-7-操作方便
操作：ULVAC onboard! PLC control+PC interface.
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装置优势性能-8-对话界面简洁
对话界面：english通用版、简洁易识别。
装置所有机构界面上都有显示，也可以操格。
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装置优势性能-9-工艺菜单编辑简单
工艺莱单编辑界面：english版，操作简单易识别。
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装置优势性能-10-log 功能
数据Log:PC保存，可以导出Excel格式，便于分析
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装置优势性能-11-综合性能对比
Dry Etch System for Institute and other small batch production equipment
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装置施设参数
设施要求：点击查看详细
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1年
否
无
免费安装及技术培训
6个月一次。
经确认质量问题，免费更换。
24小时内到达现场并开始维修
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