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韩国CTS公司的AP200型CMP抛光机是一款科研级的CMP系统，采用CTS公司工业级的设计理念，为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套研究级别的高端设备，可兼容4寸，6寸，8寸样品。
第二、产品主要特色：
1、CMP抛光头：采用气囊加载模式，核心区，边缘区，保持环三区压力控制，可得到良好的工业级抛光效果；
2、自动上下片，自动抛光，干进湿出；
3、抛光垫修整器：摆臂式设计，由10个传感器分别控制10个区域的下压力，可保证抛光垫高水平修整；
4、抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式；
5，工艺数据可实时监测；
6、可存储多个Recipe.
售后服务
1年
是
有
免费安装培训
质保期内免费仪器保养
质保期内免费非人为损坏免费维修
24小时内到达现场并维修
CMP化学机械抛光机 AP200型信息由深圳市科时达电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于 CMP化学机械抛光机 AP200型报价、型号、参数等信息，Kesda客服电话：400-860-5168转4967，欢迎来电或留言咨询。
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