仪器对比
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HD系列是建立在牛津应用研究在为科学界提供射频原子源的广泛经验之上的。系
列的模型产生的中性光束具有极高的原子通量和零离子含量。原子只有热能，但却具
有高度的活性。这保证了极高质量的材料快速增长，而没有与离子束处理相关的点缺
陷。我们的源进一步被设计成多功能的，允许用户简单地完成不同气体和流动状态之
间的变化。
应用领域
牛津应用研究公司的射频原子源被广泛应用
于各种薄膜工艺的研究和全自动生产应用
中。反应束的热特性确保了原子物种快速传
递到衬底，而不会产生高能过程的有害后
果。这使得该源非常适合生长高质量的氮化
物和氧化物，以及使用原子氢进行低损害清
洁。这些源在诸如GaInNAs、GaN、ZnO、
超薄Al、介质氧化物、O薄膜和高k薄膜等应
用中取得了巨大的成功
操作原理
在射频原子源中，气体(如氮气)被引入全陶
瓷腔(放电区)。等离子体是由应用电感耦合
射频激励在放电区诱导。等离子体将原料气
体分解成离子和中性反应原子，中性反应原
子通过多孔的等离子体限制板进入过程室。
带电粒子被保留在等离子体中。这些来源包
括高效的水冷却，以确保操作过程中的污染
更小。他们还具有等离子体的磁约束，以提
高裂解效率，和一个超级高效的匹配网络，
在更大运行功率下显示几乎为零的功率损
耗。
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