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XAVU是一款一机多用型光谱仪，应用了先进的EFP算法和微光聚集技术，既保留了专用测厚仪检测微小样品和凹槽的膜厚性能，又可满足成分分析。被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。
1）搭载微聚焦加强型X射线发生器和先进的光路转换聚焦系统，测量面积小至0.03mm2
2）拥有无损变焦检测技术，手动变焦功能，可对各种异形凹槽件进行无损检测，凹槽深度范围0-30mm
3）核心EFP算法，可对多层多元素，包括同种元素在不同层都可快、准、稳的做出数据分析（钕铁硼磁铁上Ni/Cu/Ni/FeNdB，准确检测一层Ni和三层Ni的厚度）
4）配置智能抽真空系统，屏蔽大气对低能元素的影响，对Al,Si,P等轻元素涂镀层厚度以及成分测试精度更高，数据更加准确稳定
5）装配SDD硅漂移探测器，分辨率更高，能量线性好，较高的峰背比
6）配置更高效数字多道技术，测试速度更快，计数率达到100000CPS，精度更高
7）涂镀层分析范围：锂Li（3）- 铀U（92）
8）成分分析范围：钠Na（11）- 铀U（92）
9）RoHS、卤素有害元素检测
10）人性化封闭软件，自动判断故障提示校正及操作步骤，避免误操作
11）标配4准直器自动切换，测量面积小至0.03mm2
12）配有微光聚集技术，最近测距光斑扩散度小于10%
1年
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