典型应用:
纳米表征
• 金属及合金, 氧化/腐蚀, 断口, 焊点, 抛光断面, 磁性及超导材料
• 陶瓷, 复合材料, 塑料
• 薄膜/涂层
• 地质样品断面, 矿物
• 软物质: 聚合物, 药品, 过滤膜, 凝胶, 生物组织, 木材
• 颗粒, 多孔材料, 纤维
原位过程分析
• 增湿/去湿
• 浸润行为/接触角分析
• 氧化/腐蚀
• 拉伸 (伴随加热或冷却)
• 结晶/相变
纳米原型制备
• 电子束曝光 (EBL)
• 电子束诱导沉积(EBID)
主要参数
电子光学
• 高性能电子光学镜筒,双阳热发射电子枪
• 固定式物镜光阑,使用方便
• 45°锥度物镜靴,及“穿过透镜”的压差真空系统
• 加速电压: 200 V - 30 kV
• 束流:zui大2 μA并连续可调
• 放大倍数: 6 x – 1,000,000 x
分辨率
• 高真空
–– 30 kV下3.0 nm (SE) –– 30 kV下4.0 nm (BSE) * –– 3 kV下8.0 nm (SE)
• 高真空下减速模式*
–– 3 kV下 7.0 nm *
• 低真空
–– 30 kV下3.0 nm (SE) –– 30 kV下 4.0 nm (BSE) –– 3 kV下10 nm (SE)
• 环境真空 (ESEM)
–– 30 kV下3.0 nm (SE)
检测器
• E-T二次电子探头
• 大视场低真空气体二次电子探头 (LFD)
• 气体二次电子探头 (GSED)
• 样品室红外CCD相机
• 高灵敏度、低电压固体背散射探头*
• 气体背散射探头*
• 四分固体背散射探头*
• 闪烁体型背散射探头/CLD*
• vCD (低电压高衬度探头)*
• 电子束流检测器*
• 分析型气体背散射探头 (GAD)*
• Nav-Cam™ – 光学相机彩色成像,用于样品导航*
• 阴荧光探测器*
• 能谱*
• 波谱*
• EBSD*
真空系统
• 1个 250 l/s 涡轮分子泵, 1个机械泵
• 的“穿过透镜”的压差真空系统
• 电子束在气体区域的行程:10 mm或2 mm
• 可升级成无油机械泵
• 样品室真空度 (高真空模式) < 6e-4 Pa
• 样品室真空度(低真空模式) < 10 to 130 Pa
• 样品室真空度(环境真空模式) < 10 to 2600 Pa
• 典型换样时间: 高真空模式≤ 150秒;低真空及环境真空模式 ≤ 270秒(FEI标准测试程序)
样品室
• 左右内径284 mm
• 10 mm分析工作距离
• 8个探测器 / 附件接口
• EDS采集角: 35°
样品台
• X/Y = 50 mm
• Z = 50 mm (其中马达驱动25 mm)
• 手动倾斜:- 15° to + 75°
• 连续旋转360°
• 重复精度: 2 μm (X/Y方向)
• 全对中样品台