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- 91L
· 洁净度100级、氧浓度低于20ppm的气氛炉，主要应用于固化半导体晶圆等。
· 最高工作温度360℃和500℃。
· 采用耐热高性能高效过滤器，可在洁净的环境下进行高温烘烤。
· 高气密性的压力箱构造，氧浓度到达时间短，N2 消耗量极低。
· 磁密封保持高气密性，采用水冷机构保护密封部件免受热量影响。
· 可实现快速升温和降温，升降温速率可调节。
· 标准装备有废液回收装置，对气体进行冷却回收。
· 拥有门检测开关、温度过升防止器、氧浓度异常安全装置、氮气压力检测、氮气流量检测、冷却水流量检测、漏水传感器、过电流漏电漏电保护开关等安全功能。
售后服务
120天
1年
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