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4-5年
1年
进口
赛默飞
QUANTA400
5
400000
扫描电镜主要技术参数
分辨率
二次电子（SE）成像
高真空模式：30kV时 1.2nm；1kV时 3.0nm
低真空模式：30kV时 1.5nm；3kV时 3.0nm
ESEMTM环境真空模式：30kV时 1.5nm
背散射电子（BSE）成像
30kV时 2.5nm
放大倍数
高真空模式：12×～1，000，000×
低真空模式：12×～1，000，000×
加速电压
200V～30Kv
样品室内径 379mm
能谱（EDS）主要技术参数
能量分辨率（20000CPS）：Mn-Ka≥129eV,C-Ka≥65eV,F-Ka≥70eV，1000CPS～40000CPS时，Mn-Ka谱峰漂移≤1eV，空间分辩达到纳米量级；
元素分析范围：Be4～U92；
输出最大计数率≥100，000CPS，输入最大计数率≥300，000CPS
EBSD主要技术参数
EBSD探头
EBSD花样分辨率：640×480，信噪比≥65Db，芯片积分时间：80微秒～15分钟
最大标定速度≥400帧/秒（准确率优于99%），束流≤2nA仍可以高速采集；
在高、低真空和可变真空条件下都可以高速采集。
数据采集系统
可对所有对称性（从三斜到立方的所有7个晶系）的晶体材料的EBSD进行自动标定，空间分辨率≤0.05μm;
EBSD花样自动采集和标定的准确度≥99%，标定速度≥400幅/秒;
使用一个软件平台同步采集EBSD和能谱数据，进行花样标定与相鉴定。
EBSD软件
EBSD面扫描数据分析，包括取向图、极图与反极图、ODF图等，功能包括：花样质量、相界晶界、晶粒尺寸、欧拉角、共格界面等；
具有晶界特征（相界、晶界旋转角、轴角对、共格界面等），离散绘图（极图、反极图、ODF和MDF图、欧拉空间图、强度绘图（花样质量、晶粒尺寸、相和晶体取向）织构分析（计算和绘图）等分析软件。
1年
是
有
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72小时内
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