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【仪器简介】
紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材表面有机污染物去除的表面清洗设备。低压紫外汞灯能够
同时发射波长254nm和185nm的紫外光，在这两种短波紫外光的照射下，活化有机物分子与活
性氧原子发生氧化反应，生成挥发性气体逸出样品表面，从而彻底清除粘附在样品表面上的有机
污染物。
【应用范围】
在印制电路板生产中进行光清洗后，可以提高导线焊接时熔焊的接触面积，增加连接强度，
进而提高印制电路板的质量；
LCD、OLED生产中进行光清洗后，可以提高基体表面润湿性，进而增强基体表面的粘合力；
集成电路领域，光清洗可以实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤；
光清洗还可以应用于提高半导体粘合力、清洗彩色滤光片表面有机污染物、提高光学玻璃镀
膜质量等场景；
此外，对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余光刻胶、环氧树脂、焊剂；以及带有氧化
膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗都是十分有效的方法。
【仪器特点】
采用5寸彩色触摸屏控制，可自主设定运行时间、加热温度、气路流量等流程参数
加热、升降一体式样品台，升降行程50mm，便于样品与UV灯间距的调整
样品台恒温控制，智能PID温度调节，设置范围RT~200℃，控温精度±1℃
流量、加热、UV灯分别自动单独控制启闭，处理过程中可手动中断
处理方式组合多样。可选择处理过程：是否启用样品台加热功能、打开供氧气路
自动储存清洗参数设置，并生成历史记录，避免实验数据遗忘
安全互锁。设备运行过程中，清洗腔上盖打开，设备自动关闭UV灯，并弹窗提示，避免紫外线对人伤害。
标配流量数字化显示（可接入氧气或臭氧），可调节气路供气流量
上置式样品台及上翻式开盖设计，取放样品方便，操作简单快捷
波长254nm和185nm双波UV灯源，灯管寿命约为8000小时，配备UV反光罩使样品照射均匀化。
一键化操作，减少工作强度
【设备参数】
| UV230 | |
| 样品台尺寸/mm | 220*270 |
| UV光管尺寸/mm | 230*230 |
| 样品台升级行程/mm | 50 |
| 流量范围（ml/min） | 0~1000 |
| 外形尺寸（L*W*H）/mm | 445*300*245 |
| 主机重量/kg | 11.5 |
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清除粘附在样品表面上的有机污染物电子/电气 2023-11-08
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