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GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现200mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。
该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高，寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。CLIV技术的应用保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。
GL8 CLIV Gen2纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的研发和量产。
经过量产验证的200mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印
CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性
设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本
自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预
标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料
标配设备内部洁净环境与除静电装置
随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构以及微透镜阵列等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平
120天
1年
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