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产品简介：
TriboLab CMP 利用其前身产品 （Bruker CP-4） 超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界领先的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 是市场上唯一能够提供广泛的抛光压力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具，可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。
产品参数：
| TriboLab CMP | |
| 测量能力 | 桌面型化学机械抛光测试平台 |
| 系统属性 | 集成高速/大扭矩旋转马达 |
| 同服控制精准加载载台;电动定位水平载台 | |
| 负载/摩擦力传感器，用于抛光和抛光垫修正负载控制，测量和记录原位声发射和温度测量与记录 | |
| 机械零件的腐蚀防护;可编程双泵和冲洗泵系统 | |
| 软件 | 布鲁克 CMP 操作和数据分析软件 |
| 电脑系统 | Windows7,32位操作系统,2GB内存,＞250GB硬盘 |
| 垂直定位系统 | 最大行程:100mm |
| 分辨率:0.5um | |
| 速度:0.001-10mm/s | |
| 水平定位和移动系统 | 最大行程:75mm |
| 分辨率:0.25um | |
| 速度:0.001-10mm/s | |
| 晶圆头 | 转速:1-500rpm |
| 2英寸晶圆头压强范围:0.29-29psi | |
| 4英寸晶圆头压强范围:0.07-7.2psi | |
| 其它尺寸品圆头压强范围:0.9-90psi(4-400N) | |
| 分辨率:20mN | |
| 底盘 | 转速:1-500rpm |
| 底盘尺寸:直到9in(228mm) | |
| 修正器 | 加载范围:2-200N |
| 分辨率:10mN | |
| 修正头尺寸:直到4.25 in | |
| 扭矩能力 | 5Nm，100RPM；2.5Nm，500RPM |
| 温度测量 | -25-1000℃ |
| 声发射响应范围 | 0.2-5.0MHz |
| 可编程泵（选项） | 流速:2.2-480mL/min |
| 电源要求 | 220VAC.2.5kW |
| 系统尺寸 | 394mm(宽)x610mm(深) x775(高) |
产品特点：
专业的研发用小型ＣＭＰ系统
全面再现晶圆抛光工艺条件
提供无与伦比的测量重复性和细节
使用小晶片而不是整个晶圆作测试，节省大量成本
在线实时诊断，可以更好地了解抛光过程
更好地观测瞬时抛光特性
收集整个测试过程的数据，从晶圆基底接触抛光垫开始到测试结束
提供更完整、更详细的数据，帮助工艺开发早期做决定
灵活的样品类型、尺寸、和安装配置提供最广泛的适用性
可抛光任何平面材料，使用任何修正盘，抛光液和抛光垫
可容纳小晶片到100mm 晶圆，接受多样品夹具
1年
是
有
7. 免费培训至用户能完全独立操作，我方随机提供用户操作及维修手册1份，使用户能
3月1次
2. 产品整机免费保修期为壹年（耗材除外），负责终身维修。
在接到用户通知后立即响应。
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