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高精度紫外纳米压印光刻设备200mmGL8 CLIV Gen2
GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现200mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。
GL8 CLIV Gen2 & GL12 CLIV Gen2 2inch/100/150/200mm & 2inch/100/150/200/300mm是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，可实现200/300mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。
该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高，寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。
GL8/12 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产。
主要功能
● 经过量产验证的200mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印
● CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性
● 设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本
● 自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预
● 标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料
● 标配设备内部洁净环境与除静电装置
● 随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平
设备照片
相关参数
| 兼容基底尺寸 | 2inch、100mm、150mm、200mm 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 |
| 上下片方式 | 手动上下片 |
| 晶圆预对位 | 机械夹持预对位，可选装光学巡边预对位 |
| 纳米压印技术 | CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印 |
| 压印精度 | 优于10纳米* |
| 结构深宽比 | 优于10比1* |
| 残余层控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光强>1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配） |
| 设备内部环境控制 | 标配，外部环境class 100，内部环境优于Class 10* |
| 自动压印 | 支持 |
| 自动脱模 | 支持 |
| 自动工作模具复制 | 支持 |
| 模具基底对位功能 | 自动对位（选配） |
如想了解更多产品信息，可通过仪器信息网和我们取得联系 400-860-5168转6144
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高精度紫外纳米压印光刻设备GL8CLIVGen22024-04-15
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