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设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
设备组成:
系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片加热旋转台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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