报价 面议
综合评分 暂无
品牌
型号
产地
应用领域
营业执照已认证
看了退火炉的用户又看了
晶圆桌面型半导体快速退火炉(RTP)RTP-Table-6
全自动双腔快速退火炉RTP,晶圆快速退火炉
半自动快速退火炉RTP-快速热工艺设备RTP-SA-12
ULTECH 精确控温快速退火炉
2000C真空退火炉
1. 产品概述
PFS系列是SiC工艺等高温处理工艺中,配合使用的退火设备。可大对应φ 150mm。
2. 设备用途/原理
SiC功率器件用。研究开发。量产用。
3. 设备特点
大可对应φ150mm基板。大可加热2000℃。高真空对应。单批次25片一次性处理(也有5片处理机)
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
暂无评论,点击发布评论
Sindin
相关产品
退火炉
氧化扩散设备
真空炉
快速退火炉RTP-100
快速退火炉RTP-100-EP
快速退火炉RTP-100-HV
快速退火炉RTP-100-HV-EP
快速退火炉RTP-150
快速退火炉RTP-150-EP
快速退火炉RTP-150-HV
快速退火炉RTP-200
LSA 101 激光尖峰退火系统
LSA 201 环境控制激光尖峰退火设备
磁力真空退火炉 晨立电子
二手真空快速退火炉UniTemp
2000度真空退火炉/3000度退火炉
快速退火炉
btu回流焊炉
BTU回流焊
BTU回流焊厂家直销
半导体光掩模光刻机
精密光学用镀膜系统
真空蒸馏设备
有机EL成膜设备SOLCIET
自动氦检漏设备
小型冻结真空干燥设备
卷绕式溅射设备
卷绕式真空蒸镀设备
纵向式Cat-CVD设备
枚叶式PECVD设备
Load-lock式Plasma CVD设备
枚叶式等离子CVD设备
离子注入设备
SiC用高温离子注入设备
去胶设备
批次式溅射设备
Load-lock式溅射设备
溅射镀膜设备(立式)
刻蚀设备
高密度等离子刻蚀装置
NLD干法刻蚀设备
干法刻蚀设备
干法刻蚀装置
自然氧化膜去除设备
TCO激光划线设备
MPI探针台
Angstrom Engineering PVD COVAP
宏腾微电子设备
迈可诺
凯戈纳斯
载德半导体
QUANTUM量子科学
科睿设备有限公司
Kesda
ASTchian
溢鑫科创
维克特锐
MNT
Cnrico
蓝星宇
上海伯东
当前对比仪器已满5台