仪器对比
关注
- 日本
6.27到货库存现货；USHIO牛尾紫外线灯管UVL-4500M2-N1
产品描述 主要应用/领域
光对准装置 USHIO的光学对准技术充分利用了先进的偏振、光学和机械设计技术，使我们能够向客户提出最佳的设备。我们拥有最适合各种材料灵敏度的光学元件，包括 254nm、313nm 和 365nm。由于高功率输入，它还具有高曝光量和高均匀照射的特点。从小到大，我们都会建议适合您工作的设备。
适用于各种制造工艺的UV-LED照射设备 USHIO 的 UV-LED 实现了高照度、高集成光强度、长寿命、低功耗和即时开关。我们公司的特点是灵活的设计，利用了我们多年来培育的光学技术和冷却技术。我们将提出包括电源和控制单元在内的整体方案，并提供解决与紫外线相关的所有问题的系统。
分体式投影曝光系统“UX-5系列” USHIO 一直提供专门用于服务器、个人电脑、智能手机和平板电脑等移动设备中使用的尖端封装应用的步进机。这是一款封装基板用步进机，采用了Ushio多年来积累的光源和光学技术以及我们独特的大面积投影透镜技术，并使用了与面板尺寸相对应的平台。它实现了高生产率，同时实现了尖端封装基板所需的高分辨率和覆盖精度。
[元件技术]
- 配备全球占有率第一的超高压UV灯 - 具有高均匀性的独特照射光学系统 - 无与伦比的大面积投影镜头 - 响应基板特定畸变的对准技术
投影曝光装置“UX-4系列” 这是一款投影对准机，采用了Ushio独特的大面积投影镜头技术以及Ushio多年来积累的光源和光学技术。无需接触掩模即可一次性曝光最大 8 英寸的晶圆。它可以使用较宽的焦深对不平坦的晶圆进行曝光，从而实现邻近衬片无法实现的高生产率和高产量。
[元件技术]
- 配备市场占有率全球第一的超高压紫外灯 - 独特的高均匀性照射光学系统 - 无与伦比的大面积投影镜头
接近曝光装置“UX-3系列” 该产品已不再生产。 关于接近曝光装置“UX-3系列”的停产信息（396KB）
更换产品请点击此处→自动机
这是使用Ushio多年来积累的光源和光学技术的掩模对准机。该曝光设备不仅支持 IHG 射线，还支持深紫外波段。
[元件技术]
- 配备全球占有率第一的超高压UV灯 - 独特的照射光学系统，具有高均匀性
掩模对准机“UX-1系列” 该产品已不再生产。 关于掩模对准机“UX-1系列”的停产信息（396KB）
更换产品请点击此处 →手动机
这是使用Ushio多年来积累的光源和光学技术的掩模对准机。该曝光设备不仅支持 IHG 射线，还支持深紫外波段。
[元件技术]
- 配备全球占有率第一的超高压UV灯 - 独特的照射光学系统，具有高均匀性
卷对卷投影曝光装置“UFX系列” USHIO 用于柔性基板的接近/投影曝光系统系列的累计市场记录已超过 800 台。
使用专门开发的高输出灯和采用成熟光学技术的投影镜头可实现高效率、高分辨率的曝光。
[元件技术]
- 配备市场占有率全球第一的超高压紫外灯 - 独特的高均匀性照射光学系统 - 无与伦比的大面积投影镜头
紫外线光刻胶固化设备“Unihard” 这是在LSI生产线中作为紫外线照射装置使用的紫外线光致抗蚀剂固化装置。
配备超高压UV灯和准分子灯，可用于提高干法蚀刻过程中的等离子体耐受性、
离子注入过程中的抗脱气和烘烤、电荷擦除、应力擦除和低k等多种用途。已经治愈了。
该产品新设备的订单将于 2023 年 9 月底结束。到2035年9月下旬为止，我们计划准备一个在提供主要维护和消耗部件（例如灯单元和加热板）方面不会造成任何问题的系统。详细请看 这里
电荷擦除装置 强大的深紫外线照射可消除 EPROM、闪存等的电荷。消除了各种等离子工艺中存在的充电问题。
该产品新设备的订单将于 2023 年 9 月底结束。到2035年9月下旬为止，我们计划准备一个在提供主要维护和消耗部件（例如灯单元和加热板）方面不会造成任何问题的系统。详细请看这里
点状UV照射装置“Spot Cure系列” “Spot Cure 系列”采用了约 30 年积累的光学系统技术，其设计易于使用且环保。我们提供多种镜头、装置和其他选项来适应生产线和工作条件。 单击此处获取说明手册、故障排除和外部 CAD 数据（需要注册会员）
“应用和漆膜”2015 年 11 月号 PDF (2.31MB)
物理化学设备用光源单元“Optical Modulex” 这是一款桌面光源装置，可以在桌面上轻松提取红外线、紫外线和可见光的平行光，
非常适合光谱仪和太阳能电池评估。所有型号都无需调整灯光轴，并允许在桌面上进行高度平行和高功率光源实验。
30天
12月
安装调试现场免费培训
到货后5天内
1小时内
是
1天内
是
相关产品
