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- NDIR
- SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3
- 1~264ppm(0~200mTorr)
- ±0.5%
四氟化硅传感器是由四方光电自主研发的高性能气体传感器，产品基于非分光红外技术(NDIR)，能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体，兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议，适合半导体行业化学沉积设备、原子层沉积设备腔室的清洁终点监测。
四氟化硅传感器产品特性
使用NDIR技术，多气体监测支持(SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体)
响应时间快，高灵敏度
无耗材
模拟/数字通信
模块化设计，便于集成
四氟化硅传感器技术参数
| 检测原理 | NDIR |
| 检测气体 | SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2 |
| 量程 | 1~264ppm(0~200mTorr) |
| 重复性 | ±0.5% |
| 线性 | ±1%F.S. |
| 检测限 | 1ppm |
热导氢气传感器产品介绍
热导氢气传感器ATRS-1010-H2是由四方光电自主研发的一款热传导氢气传感器,基于气体热传导测量的方法，为汽车动力电池热失控和锂电池储能安全监测实现提前快速预警，提高安全性。同时可以对氢气泄漏进行有效监测，并将测量信号通过UART通信传递给主控系统。具有测量准确、响应时间快速、测量量程大、功耗低和寿命长等显著特点。
热导氢气传感器产品特性
精度高，响应时间快
寿命长,可达15年
防护等级高,满足IP54要求
热导氢气传感器技术参数
| 检测原理 | 热传导技术(TC) |
| 检测种类 | H2 |
| 检测范围 | 0~4%vol |
| 分辨率 | 0.01%vol |
| 检测精度 | ±(0.1%vol+10%读数) |
| 数据刷新 | ≤1s |
| 响应时间 | T90≤20s |
| 输出方式 | TTL |
| 设计寿命 | >15年 |
| 工作条件 | -20℃~+60℃；0~99%RH(非凝结) |
| 存储条件 | -40℃~+95℃；0~99%RH(非凝结) |
| 工作气压 | 80kPa~120kPa |
| 防护等级 | IP54 |
| 供电电压 | 4.5V~5.5VDC,额定电压+5VDC |
| 平均工作电流 | ≤100mA |
30天
1年
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