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POLOS NanoWriter是一款多功能紫外激光书写器，具有高精度组件，专为用户提供在光敏层中创建微结构的最高自由度。
分辨率:0.8 - 2.5µm(5µm可选)
波长:405或375纳米
最大基材尺寸:110 × 110毫米
POLOS NanoWriter包括一个405 nm的光学模块，能够在光刻胶层中写入小至0.8微米的结构。这个用户友好的工具支持高达4095级的灰度或纯二进制模式，并允许2.5D光学结构，表面结构以及掩模项目。实时激光控制自动对焦和激光强度控制，确保整个曝光过程中的高质量成像。控制电子设备都安装在框架内，除了控制PC。这个基于微软windows的桌面PC和所有需要的软件都包含在包中。
好处
高品质，低成本的无掩模光刻工具
375nm源可用于i-Line电阻
市场符合0.8µm分辨率
紧凑的光模块:使用一个备用光单元，减少机器停机时间
用户友好的操作
支持高达4“x4”的基板
宽度:580mm
高度:708mm
深度:600mm(不含可选风道)
重量:260kg
压缩空气:5 - 7bar，空气质量符合ISO8573-1:2010 3级或以上
POLOS 无掩膜直写光刻机4寸信息由上海麦科威半导体技术有限公司为您提供，如您想了解更多关于POLOS 无掩膜直写光刻机4寸报价、型号、参数等信息，上海麦科威客服电话：400-860-5168转6289，欢迎来电或留言咨询。
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