供货周期: | 两周 |
品牌: | Allresist |
货号: |
特点:
• 紫外正胶,用于单层lift-off工艺等
• 感光波段:Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)
• 在金属和氧化物等衬底表面有很好的粘附性能
• 通过普通的单层工艺,即可实现lift-off剥离工艺
旋涂曲线:
应用实例:
欢迎致电咨询(电话:010-82867920/21/22),更多光刻胶信息请查看官网:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
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