供货周期: | 两周 |
品牌: | Allresist |
货号: |
特点:
• 双层lift-off工艺的底层胶,不含光敏物质
• 双层工艺配套用上层胶:AR-P 3500 (正)或AR-N 4340(负)
• 在270nm~红外波段,光学透明
• 具有良好的高温稳定性
旋涂曲线:
应用实例:
欢迎致电咨询(电话:010-82867920/21/22),更多光刻胶信息请查看官网:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
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