| 供货周期： | 两周 |
| 品牌： | Allresist |
| 货号： |
特点：
• 用于集成电路加工、lift-off工艺、激光干涉曝光等
• 感光波段：i-line(365nm)、g-line(436nm)
• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度
• 高分辨率、高对比度
• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺
旋涂曲线：
应用实例：
欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
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