供货周期: | 两周 |
品牌: | Allresist |
货号: |
特点:
• 用于高分辨率电子束曝光、单层/多层lift-off工艺、 石墨烯/碳纳米管转移、绝缘保护层等
• 感光波段:e-beam、deep UV(248nm)
• 高分辨率(< 10nm),高对比度
•多种分子量:50K、200K、 600K、 950K
• 多种溶剂:苯甲醚、乳酸乙酯、氯苯
• 多种固含量实现了多种涂胶厚度
• 可定制特殊用PMMA胶
950K PMMA参考涂胶厚度:(其他型号的涂胶厚度,请联系销售人员)
应用实例:
双层PMMA lift-off工艺
PMMA Bilayer(950K/600K) - - AR-P 679.03 / AR-P 669.04
欢迎致电咨询(电话:010-82867920/21/22),更多光刻胶信息请查看官网:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
相关产品
光刻胶/抗蚀剂_导电胶_耐刻蚀胶
HSQ-光刻胶/SOG
特殊功能光刻胶 AR 300-80 new 增附剂
特殊功能光刻胶 SX AR-PC 5000/41
电子束光刻胶 AR-PC 5090.02, 5091.02(导电胶)
电子束光刻胶 AR-N 7720
电子束光刻胶 AR-N7700
特殊功能光刻胶 SX AR-P 3500/8
电子束光刻胶 AR-N 7520
电子束光刻胶 AR-P 6200(CSAR 62)
电子束光刻胶 AR-P 6510
电子束光刻胶 AR-P 617 (Copolymer PMMA/MA)
电子束光刻胶 PMMA (AR-P 631 ~ 679)
紫外光刻胶 AR-N 4400
紫外光刻胶 AR-N 4600 (Atlas 46)
关注
拨打电话
留言咨询