供货周期: | 两周 |
品牌: | Allresist |
货号: |
特点:
• 用于高分辨率电子束曝光等
• 感光波段:e-beam
• 高分辨率(< 10 nm), 高对比度(14)
• 高深宽比,高工艺稳定性
• 优异的耐干法刻蚀能力
• 采用不同的显影液(AR 600-546/ 548/ 549),可实现
不同程度的灵敏度
• 可实现Lift-off工艺,操作简单
• 溶剂为苯甲醚(安全溶剂)
旋涂曲线:
应用实例:
欢迎致电咨询(电话:010-82867920/21/22),更多光刻胶信息请查看官网:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
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