药品中潜在致突变性杂质的痕量水平定量分析

2020/11/30   下载量: 2

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应用领域 制药/生物制药
检测样本 原料药
检测项目 含量测定>色谱法, 质谱法
参考标准 -

本应用重点介绍了一种分析方法,用于精确定量两种潜在致突变性杂质 3-氨基吡啶和异烟酰胺,这两种杂质可由达伐吡啶中的活性药物成分 (API) 4-氨基吡啶形成。Agilent Ultivo LC/TQ 具有混合模式采集功能,通过该功能可以同时采集样品的定量(SIM 和 MRM)及定性信息(全扫描和产物离子扫描)。混合模式的工作原理是将扫描功能与目标分析物的 SIM 或 MRM 整合到同一时间段内。实验表明该方法具有优异的灵敏度和精度,潜在致突变性杂质的定量限远低于法规要求。

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本应用重点介绍了一种分析方法,用于精确定量两种潜在致突变性杂质 3-氨基吡啶和异烟酰胺,这两种杂质可由达伐吡啶中的活性药物成分 (API) 4-氨基吡啶形成。Agilent Ultivo LC/TQ 具有混合模式采集功能,通过该功能可以同时采集样品的定量(SIM 和 MRM)及定性信息(全扫描和产物离子扫描)。混合模式的工作原理是将扫描功能与目标分析物的 SIM 或 MRM 整合到同一时间段内。实验表明该方法具有优异的灵敏度和精度,潜在致突变性杂质的定量限远低于法规要求。

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