方案摘要
方案下载应用领域 | 半导体 |
检测样本 | 集成电路 |
检测项目 | 化学性质>元素分析 |
参考标准 | / |
采用 Agilent 8800 ICP-MS/MS 确认了水簇离子H3O(H2O)+的存在,其在冷等离子体条件下会在m/z 39 处产生 K 的背景信号。在 MS/MS 模式下,采用 NH3作为反应池气体可成功除去该水簇离子。采用 8800 ICP-MS/MS 获得的39K 的 BEC 为使用常规四极杆 ICP-MS 获得值的 1/10。这一结果展示了 MS/MS 反应模式的优势,其能阻止所有非目标离子、等离子体衍生离子进入反应池,从而避免在反应池中产生可能造成干扰的产物离子。因此,Agilent 8800 ICP-MS/MS 能够使 UPW 中 K 的 BEC 低至 30 ppq,所有其他元素(包括Ca、Fe 和 Ni)的 BEC < 150 ppq。
采用 Agilent 8800 ICP-MS/MS 确认了水簇离子H3O(H2O)+的存在,其在冷等离子体条件下会在m/z 39 处产生 K 的背景信号。在 MS/MS 模式下,采用 NH3作为反应池气体可成功除去该水簇离子。采用 8800 ICP-MS/MS 获得的39K 的 BEC 为使用常规四极杆 ICP-MS 获得值的 1/10。这一结果展示了 MS/MS 反应模式的优势,其能阻止所有非目标离子、等离子体衍生离子进入反应池,从而避免在反应池中产生可能造成干扰的产物离子。因此,Agilent 8800 ICP-MS/MS 能够使 UPW 中 K 的 BEC 低至 30 ppq,所有其他元素(包括Ca、Fe 和 Ni)的 BEC < 150 ppq。
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